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测平仪(共焦法)
LST-200H型半自动共焦平整度测试仪
LST-200H型半自动共焦平整度测试仪

LST-200H型半自动共焦平整度测试仪

Wafer Flatness Analyzer

  

测量原理(Measurement Principle)

本机采用白光共焦传感器扫描法进行表面形貌测量,经过计算得到Wafer几何尺寸特征值。

功能设计(Function)

本机适用于测量4"、6"、8"碳化硅(SIC)、金刚石(Diamond)、氧化镓(GaOx)蓝宝石(Sapphire)、碳酸锂(LT)、铌酸锂(LN)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(LnP)、硅(Si)、锗(Ge)、陶瓷(Ceramic)等二、三、四代半导体材料、玻璃(Glass)  & 金属材料(Metal)的微观表面形貌特征。可以精确获取THKTTVTIRWARPSORIBOW等几何参数。

性能参数(Specification)

Parameter

Value

分辨率(Resolution

0.05μm

传感器重复性(Repeatability

0.20μm

 

测量精度(Accuracy

±0.5μm(双抛片)

 

测量点数(Measured Data Points

1/50μm

厚度精度(Thickness

±0.5μm(双抛片)

测试速度Speed

35s/片(米字模式)

 

环境要求(Enviromental Requirements)

仪器外扩:L920*W800*H1370(MM)

仪器重量: 500Kg

电源:AC220V/50HZ/1KW(带地线/空间无强磁干扰)

洁净度:万级(含)以上(环境内无酸碱气体)

地面:隔振地面

/湿度:23℃±2℃/≤70%;无水气凝结

 

操作界面(Main Interface)

操作界面如下图所示,界面简单,便于操作。

 

  

 

结果界面(Result Interface)

 

  

 

 

北京三禾泰达技术有限公司

Beijing Sanpower Electronics Co., Ltd.

地址:北京市经开区兴贸一街7号院U谷科创中心C101

Add: No.101, 4# Building, 7th Plate, Xingmao 1st Road (Tongzhou), Beijing

Economic and Technological Development Zone, Beijing,China

Webhttp://www.m.qmpkc.cn  Cellphone13801098239

 

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